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三價黑鉻

三價黑鉻

三價?鉻

產(chǎn)品簡介:

三價?鉻電鍍?藝,所沉積的鍍層同樣是純?屬鉻,故仍具?屬鉻的特性,如硬度?、耐磨性及耐蝕性俱佳等,其鍍液以三價鉻化合物提供?屬鉻的來源,并以低?屬鉻含量操作,是新型環(huán)保產(chǎn)品,不含六價鉻,廢?處理簡單。電鍍時斷電不會有不良后果,沉積速度較六價鉻快。

1、鍍液組成及操作條件:

1. 操作條件 最佳值 控制范圍

2. 開缸鹽 310/ 300-320 /

3. 鉻鹽 120/ 110-130 /

4. 穩(wěn)定劑 120 毫升/ 100-120毫升/

5. ?鉻發(fā)?劑 1 20毫升/ 10-30 毫升/

6. 發(fā)?劑 2 10 毫升/ 1030毫升/

7. 增?劑 20毫升/ 15-35 毫升/

8. ?位劑 40 毫升/ 30-45 毫升/

9. WA 濕潤劑 4毫升/ 3-5毫升/

10. ? 35毫升/ 30-40 毫升/

11. ?屬鉻(分析值) 22 /公升 20-24 /

12. PH 2.8 2.6-3.0

5045-55

? 26 26-27

陰極電流密度 10A/dm2

5-20A/dm2

陽極材料 專?陽極(進??墨碳板)

連續(xù)過濾

輕微空?攪拌

鈦、鐵佛?

陽極?積?陰極?積 1.5-2? 1

沉積速度 0.16-0.3um/分鐘

霍?槽打?條件: 6A3分鐘、40攪拌、?位與六價鉻相似。

2、設(shè)備要求:

A)鍍 槽:PVCABS、聚?烯襯槽;

B)陽 極:采?專?陽極及鈦鉤;

C)溫度控制:采?鈦加熱管及鈦冷卻管裝置;

D)整流器:12-15V,提供直流電,為使鍍液穩(wěn)定建議配置安培?時積累計。

3、鍍液:本公司新開好的?作液,將其先加熱? 75-80,再降到 55

4、原料的功能及控制:

 

A)對鍍液的控制需要在安培?時內(nèi)對電鍍液中各成份的數(shù)量、?重、酸堿度和溫度進?

調(diào)控。為取得最佳電鍍性能,每個輪班?少需對?鉻的各種原料補充添加?次,如?作

載重?于 0.75安培/公升時補充次數(shù)應(yīng)該更頻繁,定期分析鍍液各成份及按照安培?時

消耗補充?鉻的各種原料,對?鉻?藝的穩(wěn)定性?分重要。建議使??作?志記錄?產(chǎn)

線的安培分鐘?量、?重值、PH 值、溫度及?鉻的各種原料補充資料,帶?消耗可根

據(jù)?重值 26-28玻美調(diào)節(jié);

BCS 開缸鹽:?于提?鍍液的?重及提供鉻離?,最佳值為 26,每提??個單位

需加 25-30/ CS 開缸鹽,濃度過?會引起鍍液結(jié)晶,使陽極鈍化及打?管出現(xiàn)

堵塞,濃度太低時,會影響鍍液導(dǎo)電性能;

CCM ?鉻鹽:補充鍍液所消耗的鉻離?,補充量為 400-500 /千安培?時。由于

鉻鹽的溶解度較低,加?時須緩慢地逐少量加?,加? 7-8/升的 CM 鉻鹽,可

提? 1 /升的鉻含量;

DST 穩(wěn)定劑:含有 ST 穩(wěn)定劑和 GLH ?鉻發(fā)?劑,消耗量為 2000-2500

毫升/千安培?時;

EGLH ?鉻添加劑:調(diào)整鍍層?澤均勻度。 消耗量為 20-50毫升/千安培?時;

FGLH 發(fā)?劑:起到 消耗量為 300-500毫升/千安培?時;

GGLH 增?劑:起到 消耗量為 300-500毫升/千安培?時;

HCL ?位劑:可增?電流密度范圍。消耗量為 500-1000毫升/千安培?時;

IWA 濕潤劑:能提??位,消耗量為 80毫升/千安培?時;

HPH 值:可?鹽酸或濃氨?調(diào)整 PH 值,每加? 2毫升/升濃鹽酸鍍液 PH 值降低 0.1;每

加? 2 毫升/升濃氨?鍍液 PH 值提? 0.1,加?鹽酸或氨?之后需攪拌 2-4 ?時才可? PH

機測試鍍液的 PH 值,PH 過?三價鉻會沉淀;

I)溫 度:太低有沉淀析出,太?嚴(yán)重影響鍍層覆蓋能?。

① 鍍液的特殊性:平時?產(chǎn)?作溫度控制在 45-55,可以經(jīng)常性?炭芯過濾鍍液,

不影響?產(chǎn)。加料或處理缸最好加溫? 60以上保溫 2 ?時再降?正常溫度。?般連

續(xù)?產(chǎn) 2-3天需要選擇時間對鍍液進?加溫,使各組份絡(luò)合的更好;

② ?產(chǎn)中請按安培?時添加,并填寫記錄表。

 5、?屬雜質(zhì)控制及影響:

① 當(dāng)三價?鉻鍍液受銅、鋅、鎳、鐵、鉛等?屬雜質(zhì)污染時,鍍層的?澤及外觀會受

到某程度影響。?屬雜質(zhì)含量較?時,鍍層?澤發(fā)灰。含量嚴(yán)重過多時,鍍層?澤不均,

會出現(xiàn)?條紋或?斑等情況。鍍液的帶?及?件從掛具上掉?槽中溶掉是?屬雜質(zhì)的主

要來源;

② 定期清缸,清理掉進缸底的?件,可有效防??屬雜質(zhì)對三價?鉻鍍層?澤的影響。?部份?屬雜質(zhì)如鋅、鐵及鎳,可?低電流電解清除,或可加除雜? 1號掩蔽。銅雜質(zhì)

?較敏感,需加?除雜? 2號,然后加強過濾并做電解處理,即可清除;

③ 當(dāng)鍍液受銅污染時,?、中電流區(qū)灰,隨著銅雜質(zhì)濃度的增加,鍍層發(fā)?;

④ 鍍液受鎳污染時,中電流區(qū)會出現(xiàn)??鍍層,當(dāng)鍍液同時含有鐵雜質(zhì)時低電流密度

區(qū)會呈??;

⑤ 鍍液受鉛離?污染時,低電流會出現(xiàn)?斑,鍍液的深鍍能?較差,含量過?時,?

電流密度區(qū)鍍層結(jié)合?下降。采?電解的?法可去除鉛的污染。

6、產(chǎn)品?錄:

★ ?鉻?作液 ★

1. 開缸鹽

2.

3. 穩(wěn)定劑

4. ?鉻添加劑

5. 發(fā)?劑

6. 增?劑

7. ?位劑

8. 濕潤劑

9. 除雜? 1 號(鎳)

10. 除雜? 2 號(銅)

11. 專?陽極(?墨碳板)

7、三價?鉻電鍍與傳統(tǒng)六價鉻電鍍的?較:

A)覆蓋能?強,電流范圍?闊,?電位燒焦現(xiàn)象減少,可掛較多數(shù)量的?件,不需沖擊

電鍍,可像酸銅、鎳般循環(huán)電鍍;

B)分散能?極佳,電鍍速度極快,厚度分布更均勻;

C)不像六價鉻電鍍?nèi)菀桩a(chǎn)??漬;

D)此?藝采?專??墨陽極,陽極使?壽命?,使鍍液免受鉛污染;

E)電鍍時使?的電流密度低,節(jié)省電?能源的消耗;

F)鍍層不含六價鉻痕漬,符合 ROHS 標(biāo)準(zhǔn);

G)環(huán)保,不會對空?產(chǎn)?污染,?廢?處理更簡易;

H)安全操作,對從業(yè)?員的健康有保障。

8、電鍍故障及處理:

 

處 理

 

鍍層有??斑紋

1、?屬鉛污染

1、扯?處理及排查鉛污染來源


2、前處理不良

2、加強前處理

鍍層發(fā)

1PH 值?

1、?鹽酸調(diào)整 PH


2、?重低

2、補加 CS 開缸鹽


3、鍍鎳前鍍層清潔不?凈

3、清洗澈底


4、鍍鉻前?件過于?燥

4、保持?件微濕

鍍層發(fā)藍、起彩

1GLH ?鉻發(fā)?劑多

1、減少?鉻添加劑?量

?電位燒

1、溫度低

1、提?鍍液溫度

結(jié)合?差

1、鎳層鈍化

1、鉻預(yù)浸時受六價鉻污染,排查


2、鉛雜質(zhì)污染

 2、扯?處理及排查鉛污染來源


3、在鎳出?處雙極化

3、較正雙極化


4、在鉻??處雙極化

4、較正雙極化

?位差

1PH 偏低

1、?氨?調(diào)整 PH


2、?重偏低

2、補充 CS 開缸鹽


3、打?過快

3、減?打?


4CL ?位劑少

4、補加 CL ?位劑


5、WA 濕潤劑少

5、補加 WA 濕潤劑

沉積速度慢

1PH 偏?

1、?鹽酸調(diào)整 PH


2、攪拌慢

2、提?攪拌速度


3、?重低

3、添加 CS 開缸鹽


4、鉻離?偏低

4、補加 CM 鉻鹽

缸邊有結(jié)晶

1、溫度過低

1、對鍍液加溫


2、?重太?

2、稀釋鍍液

鍍層偏?

1、?鉻 CL ?位劑少

1、補充 CL ?位劑


2、?重偏低

2、補充 CS 開缸鹽

淺?鍍層

1、溫度過?

2PH 值過低

1、降低鍍液溫度

2、?氨?調(diào)整 PH


3、?重偏低

3、補充 CS 開缸鹽


4CL ?位劑多

4、減少 CL ?位劑的添加

聲明:此說明書所有關(guān)于本公司產(chǎn)品的建議及參數(shù),是以本公司信賴的實驗與資料為標(biāo)準(zhǔn)。因業(yè)界同仁設(shè)

備及實際操作的各異性,故本公司不保證及不負責(zé)任可能相關(guān)之不良后果,此說明書內(nèi)所有的資料

也不?作侵犯版權(quán)的證據(jù)。


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